核研所已開發真空高密度廣域電漿源,結構單純,成本最低化,已有20部機組以上技轉成功案例,尤能勝任大面積及體積工件。能鍍製各種金屬及其反應膜,如TiN,CrCN,ZrON等,提供裝飾調色,耐磨延壽及抗蝕保護等功能,適用金屬、塑膠、陶瓷等各種基材。薄膜具高附著性,優於傳統蒸鍍及濺鍍。此技術為環保製程,對高附加價值產品可替代電鍍、電解等製程。

歡迎業界提出需求,共同開發新功能產品,提供從原料、量產製程、生產設備至最終產品之整體解決方案,技術完全自立自主。

 

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